搪瓷反应釜及其它搪瓷设备所用瓷釉，是由多种矿物质原料和化学原料按一定的比例混合，经过熔融或半熔融所形成的玻璃态物质，其组分分为：基体剂，助熔剂、乳浊剂，氧化剂、密着剂、着色剂和辅助剂，而各剂中的每一种组分在瓷釉中的作用并非单一，如其中的三氧化二硼既是基体剂又是助熔剂。
工业搪瓷设备也就是搪玻璃设备，其瓷釉配方组成的主要成分及含量为：二氧化硅50%-80%，三氧化二硼12%左右，氧化钠12%左右，氧化钴3%左右。瓷釉组分配比的不同，可形成底釉和面釉，底釉是烧成瓷层与钢体紧密结合的瓷釉，其组分配比加大了密着剂的含量而增强瓷层与钢体的结合力，而面釉其组分配比则是加大了耐腐蚀成分的含量，使烧成的外搪瓷层具有很高的耐腐蚀能力，而组分的不同又可使烧成的搪瓷层呈现蓝色、白色等不同的颜色。
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